2020年12月8日下午14：00，山河光电创始人孙磊博士应邀到金沙2004路线js5，进行了题为“半导体技术及其在光学器件上的应用和光学超表面介绍”的学术报告。来自金沙2004路线js5部分老师和研究生参加了此次讲座，讲座由黄玲玲教授主持。 

　　在报告的前半部分，孙磊博士主要介绍了半导体技术及其在光学器件上的应用。首先他简要介绍了半导体工艺步骤，并指出光刻是半导体工艺的重要环节；接着他介绍了提高光刻分辨率的有方法，以及光刻机和工艺的改进。同时，孙磊博士还向大家展示了介绍了最新一代EUV光刻机和晶体管集成工艺，并对光学器件和电子器件的工艺要求做了对比，指出光学器件比电子器件对工艺的要求低，大部分光学器件可以用纳米压印制造。

　　在报告的后半部分，孙磊博士介绍了超材料和超表面的有关内容。其中超材料方面应用他介绍了力学超材料的机械结构和声学超材料的吸音结构；光学超表面方面，他介绍了光学超表面在液晶和全固态激光雷达、面板显示，AR/VR和超透镜等方面的应用。他指出从学界到工艺界，超材料和超表面具有广阔的应用前景。 

　　在报告的最后，孙磊博士介绍了自己的团队和创业公司，并就相关话题和与会师生进行充分的互动交流，回答了与会师生所提出的相关问题。他亲切清晰的讲解受到与会师生的一致好评，赢得了大家热烈的掌声。 

个人简介： 

　　孙磊，博士，于2001年和2004年在南开大学取得应用光学学士和光学硕士学位，2010年取得美国罗切斯特大学光学博士学位。此后加入格罗方德美国本部战略光刻部门担任高级研究组成员(senior member of technical staff)，并一直在世界两大半导体研发中心之一的IBM研究联盟做EUV尤刻及光烘叫在的明WV必工作。主持了EUV光刻原型验证机Alpha demo tool及后续机型的工艺验证工作，直接参与并推动了EUV光刻技术的成熟及工业化。2018年底加入哈佛大学的超透镜创业团队，领导工艺研发，供应链及市场工作。2020年底回国创 立山河光电。发表期刊论文26 篇，授权发明专利30项，其中美国专利28项，国际报告41次。2016年评为国际光学工程学会高级会员。

(审核：盛筠)